鲁汶仪器有限公司是一家专注于半导体装备和解决方案的高科技企业，公司由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同组建，并在北京设有研发中心，在上海、广州、西安、成都、台湾省新竹、新加坡、韩国光州等地设有市场和技术服务中心。公司拥有一支由诺贝尔奖获得者、国家级专家、国内外半导体领域知名教授、资深工程师及高校科研院所的年轻技术骨干组成的国际化专家团队。公司致力于研发全球领先的磁存储器刻蚀系统、离子束刻蚀系统、等离子镀膜系统、金属沾污检测系统等，为先进的集成电路产线提供各类装备和工艺解决方案。

主要产品包括基于等离子体技术的12英寸和8英寸刻蚀和沉积设备，如RIE、ICP、IBE以及PECVD和ICP-CVD等。部分机台兼容4英寸到8英寸晶圆，适用于规模化产线和中试研发线。LMEC平台刻蚀系统是公司的核心专利产品，具有侧壁陡直、等离子体损伤小、刻蚀产率高等特点，适用于磁存储器、磁传感器和其他以磁隧道结为基础的自旋电子学器件的生产和研发。

发展方向：鲁汶仪器有限公司以“成为半导体关键装备和解决方案的首选供应商”为愿景，以“面向半导体前沿技术需求，推动芯片制造技术改革，提供从装备研发、生产到技术支持的完整服务体系”为使命，秉承“求实、创新、责任、信赖、分享”的价值观，持续创新，为客户提供性能卓越的半导体研发、生产、材料检测等精密设备及配套技术服务。